The sputtering conditions were as f

The sputtering conditions were as follows: discharge frequency 13.56 MHz; discharge power 200 W; discharge gas pressure 0.53 Pa; argon discharge gas at a constant flow rate of 400 ml/min; substrate temperature 700 °C or no substrate heating; discharge time 1 to 3 h.

結果 (中文) 1:

溅射条件为：放电频率13.56兆赫；放电功率200 W；放电气压0.53 Pa；氩放电气体在400毫升/分钟的恒定流量；衬底温度700°C或没有基板加热；放电时间1至3小时

結果 (中文) 2:

溅射条件如下： 放电频率 13.56 m h z ；放电功率 200 W ；放电气体压力 0.53 巴勒斯坦权力机构 ；氩放电气体在恒定流量的 400 毫升/分钟 ；衬底温度 700 ° C 或无基材加热 ；放电时间 1 到 3 h。