[0038] The microstructures MS1 may

[0038] The microstructures MS1 may be formed by the patterning process for forming the 取向層 118A. For example, the material layer for the 底層 116A and the material layer for the 取向層 118A may be formed on the support plate 112A in sequence. The method of forming the material layer for the 底層 116A and the material layer for the 取向層 118A may include deposition, coating, printing or the like. For example, the method of forming the material layer for the 取向層 118A may be spin coating. In some embodiments, the 取向層 118A formed by using spin coating may have a flattened top surface facing away from the support plate 112A.

結果 (繁體中文) 1:

[0038]微結構MS1可通過用於形成取向層118A的圖案化工藝來形成。例如，可以在序列中的支承板112A上形成的底層116A和用於取向層118A的材料層的材料層。形成用於底層116A的材料層和用於取向層118A的材料層可以包括沉積，噴塗，印刷或類似的方法。例如，形成用於取向層118A的材料層的方法可以是旋塗。在一些實施方案中，取向層118A通過使用旋塗可具有扁平的背離支承板112A遠離頂表面上形成。

結果 (繁體中文) 2:

[0038] 微結構MS1可以通過形成[118A]的圖案過程形成。例如，在支撐板 112A 上可按順序形成 __116A 的材料層和 118A 的材料層。為*116A和*118A的物料層形成材料層的方法可包括沉積、塗層、印刷等。例如，為_118A形成材料層的方法可以是旋轉塗層。在一些實施例中，使用旋轉塗層形成的[118A'，其頂面可朝向支架板112A的扁平表面。 ...

結果 (繁體中文) 3:

[0038]微結構MS1可以由用於形成取向層118A的圖案化過程形成。例如，可在支撐板112A上依次形成用於底層116A的資料層和用於取向層118A的資料層。形成底層116A的資料層和取向層118A的資料層的方法可以包括沉積、塗覆、印刷等。例如，形成用於取向層118A的資料層的方法可以是旋塗。在一些實施例中，通過使用旋塗形成的取向層118A可以具有遠離支撐板112A的平坦頂面。