Using RIP process, two Al2O3/Pt/Al2

Using RIP process, two Al2O3/Pt/Al2O3/Ti multilayer films with the thicknesses of 70.7/7.3/75.8/152 and 73.8/7.1/81.3/155 nm are fabricated, and agrees well with the simulation result in the defined area of the contour maps for PTCE of more than 91%.

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結果 (繁體中文) 1: [復制]

復制成功！

使用RIP處理，二氧化鋁/鉑/ Al2O3催化劑/ Ti的多層膜與納米被製造，並與模擬結果中所定義的面積非常一致的70.7 / 7.3 / 75.8 / 152 73.8 / 7.1 / 81.3 / 155的厚度等高線地圖的91％以上PTCE。

正在翻譯中..

結果 (繁體中文) 2:[復制]

復制成功！

採用 RIP 工藝，製造了兩個厚度為 70.7/7.3/75.8/152 和 73.8/7.1/81.3/155 nm 的 Al2O3/Pt/Al2O3/Ti 多層薄膜，與 PTCE 等高線圖的設定面積的模擬結果完全一致，且為超過 91% 的 PTCE 等值圖的設定區域。

正在翻譯中..

結果 (繁體中文) 3:[復制]

復制成功！

採用RIP工藝，製備了兩層厚度分別為70.7/7.3/75.8/152和73.8/7.1/81.3/155nm的Al2O3/Pt/Al2O3/Ti多層膜，在PTCE輪廓圖的規定區域內，與類比結果吻合良好，PTCE輪廓圖的規定區域大於91%。<br>

正在翻譯中..

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