The profile’s variation by M2000-65

The profile’s variation by M2000-65TS pad between the demos of KP20001 and KP20002 with higher DF applied is higher than the low DF applied.

結果 (繁體中文) 1:

施加由KP20001和KP20002具有較高DF的演示之間M2000-65TS墊輪廓的變化比低DF施加更高。

結果 (繁體中文) 2:

應用較高 DF 的 KP20001 和 KP20002 演示之間的設定檔的 M2000-65TS 焊盤變化高於應用的低 DF。

結果 (繁體中文) 3:

在KP20001和KP20002的演示中，使用較高測向值的剖面的M2000-65TS pad變化高於使用較低測向值的剖面。