依據基板的形狀、基板預期蒸鍍的圖案形狀而變化準直器的形狀、準直器的開口

依據基板的形狀、基板預期蒸鍍的圖案形狀而變化準直器的形狀、準直器的開口形狀、準直器的開口與基板預期蒸鍍的圖案之相對位置

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依據基板的形狀、基板預期蒸鍍的圖案形狀而變化準直器的形狀、準直器的開口形狀、準直器的開口與基板預期蒸鍍的圖案之相對位置

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The shape of the collimator, the opening shape of the collimator, and the relative position between the opening of the collimator and the expected evaporated pattern of the substrate vary based on the shape of the substrate and the expected evaporated pattern of the substrate

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According to the shape of the substrate and the expected evaporation pattern of the substrate, the shape of the collimator, the shape of the opening of the collimator and the relative position of the opening of the collimator and the expected evaporation pattern of the substrate are changed.

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