Ar and N ions with energy controlle

Ar and N ions with energy controlled up to a few thousand eV from a separate anode-layer ion source bombard a growing thin film during deposition, transfer the ion momentum to the arriving particles, and enhance the mobility of particles on the substrate.

結果 (中文) 1:

Ar 和 N 离子的能量控制在一定从一个单独的阳极层离子源的几个一千个 eV 炮击日益薄膜在沉积过程、 离子动量转移到到达粒子，和增强颗粒在基体上的流动性。

結果 (中文) 2:

氩气和氮气的离子能量从一个单独的阳极层离子源控制多达几千电子伏特沉积期间轰击生长薄膜，离子动量转移至到达颗粒，并提高在基板上的颗粒的流动性。

結果 (中文) 3:

Ar和N能量控制多达几千eV的从一个单独的阳极层离子源轰击生长的薄膜沉积过程中离子，离子的动量转移到颗粒，增强颗粒在基体的流动性。