In this phase, the plasma also etch

In this phase, the plasma also etched the parylene-C layer, and it was observed that the parylene-C under the hinges was partially removed. However this had no effect on the mirror fabrication, as long as the parylene-C under the mirror part remained. Finally the parylene-C was removed by O2 plasma after released

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原始語言: 偵測語言

目標語言: 繁體中文

結果 (繁體中文) 1: [復制]

復制成功！

在這個階段中，等離子體也被蝕刻的聚對二甲苯-C層，並且據觀察，鉸鏈下的聚對二甲苯-C部分除去。然而，這有鏡子部的下方的鏡製造沒有影響，只要聚對二甲苯-C殘留。最後，聚對二甲苯-C是由O2等離子去除後發布

正在翻譯中..

結果 (繁體中文) 2:[復制]

復制成功！

在此階段，等離子體還蝕刻了丙烯-C層，並觀察到鉸鏈下的丙烯-C部分被移除。然而，這不會影響鏡面的製造，只要鏡面部分下的丙烯-C保持不動。最後，釋放後，O2等離子體取出了丙烯-C

正在翻譯中..

結果 (繁體中文) 3:[復制]

復制成功！

在此階段，电浆還蝕刻了parylene-C層，觀察到鉸鏈下的parylene-C被部分去除。然而，只要鏡下的parylene-C仍然存在，這對鏡的製造沒有影響。最終釋放後用氧电浆去除parylene-C<br>

正在翻譯中..

其它語言

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