Recent development in science and t

Recent development in science and technology has made simulation growing natural process in silico becomes possible. It is also possible to generate Batik motifs and ornamentation – which found has a fractal property in its complex geometry – computationally. Situngkir (2008) have been classified innovation types of batik motifs and found that batik motif could growth computationally by incorporating fractal generation algorithm, such as iterated function system, complex plane, etc.

結果 (繁體中文) 1:

最近在科學和技術的發展使得類比生長在矽片的自然過程成為可能。它也是可能生成蠟染圖案和裝飾 — — 發現在其複雜的幾何形狀 — — 分形屬性計算。Situngkir (2008 年) 的蠟染圖案分類的創新類型，發現那蠟染圖案可以增長計算採用分形的生成演算法，反覆運算的函數系統、 複平面等。

結果 (繁體中文) 2:

在科學和技術的最新發展使越來越多的模擬自然的過程，在矽片成為可能。這也有可能產生蠟染圖案和紋飾 - 其中發現有其複雜的幾何形性質 - 計算。Situngkir（2008）已被被歸類蠟染基序的創新類型，發現蠟染基序可以通過摻入分形生成算法，如迭代函數系統，复平面等生長計算

結果 (繁體中文) 3:

在科學技術的新發展已在矽片上生長的自然過程進行模擬成為可能。它也有可能產生蠟染圖案和紋飾–發現有其複雜的幾何–分形特性的計算。situngkir（2008）進行了分類，創新類型的蠟染圖案和蠟染圖案可以發現增長計算的分形生成算灋，如反覆運算函數系統，複雜的飛機，等。