In this work, the effect of increasing Si content in the absorber laye的繁體中文翻譯

In this work, the effect of increas

In this work, the effect of increasing Si content in the absorber layers (CrAlSiNx/CrAlSiOyNx) of solar selectiveabsorbers upon their selectivity and thermal stability are studied. The two optical stacks presented consist of fourmagnetron sputtered layers on stainless steel substrates. In both cases, tungsten is used as back-reflector,CrAlSixN/CrAlSiOyNx as absorber layers with different Si/(Cr+Al+Si) atomic ratio (0.15 and 0.30, respectively)and finally the SiAlOx antireflection layer. The structures were theoretically designed by SCOUT softwaredepended on experimental transmittance (T) and reflectance (R) of thin single layers deposited on glass substrates.It is observed that optical stack coatings with higher silicon content show better selectivity values, highsolar absorptance, α=95.9%, and low emissivity, ε=9.7% (calculated for 400 °C), with higher thermal stabilityat 600 °C in vacuum, for 650 h. Additionally, with the annealing at 600 °C an increase of surface roughnesswas found, which was smaller for sample with higher Si content.
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結果 (繁體中文) 1: [復制]
復制成功!
在這項工作中,增加太陽能選擇性的吸收層(CrAlSiNx / CrAlSiOyNx)Si含量的影響<br>時他們的選擇性和熱穩定性吸收劑進行了研究。給出的兩個光學堆疊包括四個<br>不銹鋼基體上濺射磁控管層。在兩種情況下,使用鎢作為背反射器,<br>CrAlSixN / CrAlSiOyNx具有不同的Si /(CR +鋁+ Si)的原子比(0.15和0.30,分別地)吸收層<br>,最後是SiAlOx抗反射層。的結構進行了理論上SCOUT軟件設計<br>取決於沉積在玻璃基材上的薄的單層的實驗透射率(T)和反射率(R)。<br>據觀察,具有較高的矽含量光學堆疊塗料表現出更好的選擇性值,高<br>的太陽能吸收率,α= 95.9%,和低發射率,ε= 9.7%(對於400℃計算),具有較高的熱穩定性<br>在600℃下在真空,650小時。另外,具有在600℃下退火的表面粗糙度的增加<br>被發現,這是對於具有較高的Si含量樣品小。
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結果 (繁體中文) 2:[復制]
復制成功!
在這項工作中,增加吸收層(CrAlSiNx/CrAlSiOyNx)中Si含量的效果<br>研究了吸收器的選擇性和熱穩定性。呈現的兩個光學堆疊由四個<br>磁控管在不銹鋼基板上濺射層。在這兩種情況下,鎢都被用作反反射器,<br>CrAlSixN/CrAlSiOyNx 作為吸收層,具有不同的 Si/(Cr_Al_Si) 原子比(分別為 0.15 和 0.30)<br>最後是SiAlOx抗反射層。結構由SCOUT軟體從理論上設計<br>取決於沉積在玻璃基板上的薄單層的實驗透射率(T)和反射率(R)。<br>結果表明,矽含量較高的光學堆疊塗層具有較好的選擇性值,具有較高的選擇性<br>太陽能吸收,±95.9%,低發射率,±9.7%(以400°C計算),具有較高的熱穩定性<br>在600°C的真空下,650小時。 此外,在600°C下退火會增加表面粗糙度<br>發現,這是較小的樣本與較高的Si含量。
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結果 (繁體中文) 3:[復制]
復制成功!
本文研究了提高太陽選擇性吸收層(CrAlSiNx/CrAlSiOyNx)中Si含量的影響<br>研究了吸收劑的選擇性和熱穩定性。兩個光學堆棧由四個組成<br>不銹鋼基板上的磁控濺射層。在這兩種情况下,鎢被用作反射器,<br>不同Si/(Cr+Al+Si)原子比(分別為0.15和0.30)的CrAlSixN/CrAlSiOyNx吸收層<br>最後是唾液酸减反射層。結構由SCOUT軟件進行理論設計<br>這取決於沉積在玻璃襯底上的單層薄膜的實驗透射率(T)和反射率(R)。<br>結果表明,含矽量高的光學疊層膜具有較好的選擇性和較高的選擇性<br>太陽吸收率α=95.9%,低發射率ε=9.7%(按400°C計算),熱穩定性高<br>在600°C的真空條件下,持續650小時。此外,在600°C的退火條件下,表面粗糙度新增<br>結果表明,矽含量越高,樣品的尺寸越小。<br>
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