The designated area is designed to

The designated area is designed to be a square area of 180 cm2 that is centred to the wafer centre. The electrodes that collect current from each finger electrode are extended to outside of the wafer and then probed from the front side. Due to this electrode structure that lay outside of the aperture area, the measurement area is defined as the designated area according to the definition in ref. 15

結果 (繁體中文) 1:

指定的區域被設計成的定中心至晶片中心180厘米2的正方形區域。收集從每個指狀電極電流在電極延伸到晶片的外部，然後從表面側進行探測。
由於該開口面積的捻以外，測量區域，根據在參考文獻的定義被定義為指定的區域該電極結構。15

結果 (繁體中文) 2:

指定區域設計為以晶圓中心為中心的 180 cm2 的方形區域。從每個手指電極收集電流的電極延伸到晶圓外部，然後從前側進行探測。
由於這種電極結構位於孔徑區域之外，根據第 15 條中的定義，測量區域被定義為指定區域

結果 (繁體中文) 3:

指定區域設計為180平方釐米的正方形區域，以晶圓中心為中心。從每個手指電極收集電流的電極被延伸到晶圓外部，然後從正面探測。
由於該電極結構位於孔徑區域之外，根據參考文獻15中的定義，量測區域被定義為指定區域