We recognize that in the past, ther

We recognize that in the past, there are P/Ns we accepted something beyond our design rule.
As a result, actual frames are close to spec limit or out of spec, sometimes.
 
Recently, we received your IP request for fiducial mark dimension for several P/Ns.
Some of them, we accepted something beyond our design rule as mentioned above.
In such cases, it is difficult to make improvement because adjustment margin is already small.
 
In order to avoid this kind of issue, we would like you to agree to apply our design rule.
In this case, it is half etch to half etch space 0.15mm.
 
FYI, we are requesting yoru team to accept our design rule for new FAI sample A0008DN013F01 (2016).

結果 (繁體中文) 1:

我們認識到，在過去，有 P/Ns 我們接受的東西超越我們的設計規則。因此，實際幀是接近規格下限，或不符合規格，有時。 最近，我們收到您 IP 請求為基準標記尺寸幾個 P/Ns。有些人，我們的東西之外的地區接受我們設計規則如上文所述。在這種情況下，很難作出改善，因為調整幅度已經很小。 為了避免這種問題，我們希望你同意適用我們設計規則。在這種情況下，它是一半蝕刻半蝕刻空間 0.15 毫米。 知會一聲，我們所要求的歸檔團隊接受我們新輝樣本 A0008DN013F01 （2016 年） 的設計原則。

結果 (繁體中文) 2:

我們認識到，在過去，有P / Ns個我們接受了一些超出我們的設計規則。
這樣一來，實際幀都接近規格限制或不符合規格，有時。最近，我們收到您的IP申請為基準標記維度幾個P /納秒。他們中的一些，我們接受了一些超出我們的設計規則，如上面提到的，在這種情況下，很難做出改進，因為調整餘量已經很小。為了避免這種問題，我們想你同意使用我們的設計規則。在這種情況下，它是半蝕刻半刻蝕空間0.15毫米，僅供參考，我們要求團隊夜接受我們的新的固定資產投資的樣品A0008DN013F01（2016年）的設計規則。
 



 


 

結果 (繁體中文) 3:

我們認識到，在過去，有P /納秒，我們接受了一些超出我們的設計規則。
囙此，實際的框架是接近規格限制或規格，有時。
 
最近，我們收到您的基準標注尺寸幾P / NS請求的IP。
他們中的一些人，我們接受了一些超出我們的設計規則，如上所述。
在這種情況下，很難做出改進，因為調整幅度已經很小了。
 
為了避免這種問題，我們希望你同意應用我們的設計規則。
在這種情況下，它是半蝕刻，蝕刻0.15mm半空間。
 
還有，我們要求你的團隊接受我們的設計規則a0008dn013f01 FAI新樣本（2016）。