Following the hot hydrogen pre-trea

Following the hot hydrogen pre-treatment the initial silicon deposition commences with the introduction of silane gas to the reactor. During this initial step, the current is reduced to 8 amps and the filament temperature is maintained at approximately 650 °F. Silane flow is started to replace the hydrogen and begin the decomposition. The rate and quantity of silane flow and the filament temperature are controlled based on the type of final silicon product that is desired. For FZ grade silicon, the treatment is designed to create a cohesive interface with the filament surface. This interface is less important with other products.

結果 (中文) 1:

治疗后的热氢前初始硅沉积开始时会有硅烷气体入门反应堆。在这第一步，当前减少到 8 安培和灯丝温度维持在大约 650 ° f。硅烷流开始取代氢，并开始分解。率和硅烷流量、 灯丝温度控制基于最后硅产品所需的类型。为 FZ 硅，治疗目的被为了使粘结界面与灯丝表面。此接口是与其他产品不太重要。

結果 (中文) 2:

以下的热氢预处理的初始硅沉积在引入硅烷气体到反应器中开始。在此初始步骤中，电流减小至8安培，灯丝温度保持在大约650°F。硅烷流量开始更换氢气，并开始分解。的速率和硅烷流量和灯丝温度的量被控制根据所期望的最终硅产物的类型。对于FZ级硅，治疗的目的是创建与灯丝表面的粘结界面。此接口是与其它产品不太重要。

結果 (中文) 3:

热氢处理后的初始硅沉积从硅烷气体的反应器的介绍。在这个初始步骤中，电流减小到8安培，并且灯丝温度保持在约650华氏f。硅烷流开始取代氢并开始分解。的速率和数量的硅烷流和灯丝温度控制的基础上的类型的最终硅的产品，所需的。FZ硅，治疗的目的是创造一个与纤维表面粘结界面。此接口与其他产品不太重要。