2.2 Silica polishing Electropolishi

2.2 Silica polishing Electropolishing works very well for EBSD preparation of many samples. However, there is no universal electrolyte working for all materials and the non-conductive materials cannot be prepared by electropolishing. As a solution working for nearly all materials, colloidal sillica is a commercially available solution which consists of negatively charged particles of silicon dioxide (SiO2) with a pH value between 8 and 11 [9]. When polishing with this solution, the sample surface is slightly etched and the deformation layer

結果 (中文) 1:

2.2二氧化硅抛光电解为EBSD准备许多样品工作得非常好。然而，不存在通用的电解质，无法通过电解制备的所有材料和非导电材料的。作为一种解决方案几乎所有的材料，工作二氧化矽胶体是一种市售的解决方案，它包括带负电荷的颗粒的二氧化硅（SiO2）与pH值之间的8和11 [9]。此解决方案的抛光时，试样表面被轻微腐蚀，变形层

結果 (中文) 2:

2.2硅抛光电解抛光效果很好的样品制备技术。然而，有没有通用的电解质的所有材料和绝缘材料的工作不能由电解抛光。作为解决几乎所有的材料，胶体二氧化硅是一个商业上可用的解决方案，由带负电荷的粒子的二氧化硅（SiO2）与8和11之间的pH值[ 9 ]。当抛光用此溶液，样品表面的轻微腐蚀和变形层

結果 (中文) 3:

2.2 硅抛光电解抛光的电子背散射衍射样品制备的许多工作得很好。然而，有没有为所有材料工作的普遍电解质和非导电材料不能编写的电化学抛光。作为一个解决方案工作为几乎所有的材料，胶体二氧化硅与 8 和 11 [9] 之间的 pH 值是二氧化硅的一个商业上可用的解决方案，包括消极带电微粒 (SiO2)。当抛光使用此解决方案，样品表面稍有蚀刻和变形层